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» 日本设计师跪舔狂赞苹果iPhone 5S:完美
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日本设计师跪舔狂赞苹果iPhone 5S:完美
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发表于 2013-12-15 15:45
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东京大学一名教授兼工业设计师盛赞苹果iPhone 5S的质量和细节。
Leading Edge Design创始人兼总裁山中俊治是东京大学一名副教授。他表示iPhone 5S在细节上比iPhone 5有所改进,彰显了苹果对设计一丝不苟的精神。
当地时间本周四,《日经新闻》发表一篇标题为“iPhone 5S美在细节”("iPhone 5S' beauty is in the details." )的文章。文章中有一部分引用了他的观点。
文章称,iPhone 5S设计改进堪比丰田制造改进的持续改进系统。持续改进系统倡导对质量持续改进,该理念受到美国统计学家W. Edwards Deming的一些启发。W. Edwards Deming于上世纪五十年代初访问日本,指导过程控制和质量培训。
《日经新闻》发表的文章中展示了iPhone 5S的部分重大改进,内容如下:
·按键公差改进:iPhone 5上按键周边的空隙在iPhone 5S上“几乎消失”,手机顶端的开关按键就是一个最佳示例。
·音箱:音箱设计进行了较为复杂的改进。
·线路板:iPhone 5S主线路板尺寸较iPhone 5尺寸减少10%,为电池腾出更多空间。
·线圈:即使小至线圈也做了改进,线圈的安排表明苹果希望iPhone 5S内部也美观。
·阳极电镀铝边框:iPhone 5S边缘的铝边框也发生细微改变,改进效果相当不错。
·苹果标识:苹果标识再次精细化,但大多数人很少注意到这一微妙变化。
专注细节和质量也许是iPhone和iPad在日本市场获得巨大成功的原因之一,同时也凸显了质量控制回归美国的趋势,如备受瞩目的iPhone产品就是最好诠释。
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