农企+台积电，牙膏厂是真危险了吧

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我来给卖哥送牙膏了
近日，在IEEE国际电子设备会议（IEDM）上，光刻机一哥荷兰ASML公司披露了一张号称是Intel 9月份展示的制造工艺路线图，时间为2019-2029年，也就是未来十年的制程路线图。
ASML披露的路线图
从图片来看，10nm已经投产，7nm处于开发阶段，5nm处于技术指标定义阶段，3nm处于探索、先导阶段，2nm和1.4nm还在预研。
节奏方面，从今年的10nm开始，Intel将以两年的间隔来革新制程工艺，即2021年7nm EUV，2023年5nm，2025年3nm，2027年2nm，2029年将迎来1.4nm，并且每个制程节点都会伴有+、++两次升级（10nm除外）。